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靶材在半導體行業(yè)中的主要應用探討

更新時間:2022-08-02  |  訪問量:976
   靶材特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積工藝(PVD),是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射是制備薄膜材料的主要技術,也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊,使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出,從而在晶圓表面沉積,濺鍍形成金屬薄膜,其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。
  對靶材用量較大的行業(yè)主要有半導體集成電路、平板顯示器、太陽能電池、磁記錄介質、光學器件等。其中,高純度濺射靶材主要用于對材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領域,如半導體、平板顯示器、太陽能電池、磁記錄介質等。
  在所有應用中,半導體對濺射靶材的技術要求和純度高,價格也昂貴,這方面的要求明顯高于平面顯示器、太陽能電池等其他應用領域。半導體芯片對濺射靶材的金屬材料純度、內部微觀結構等方面都設定了極其苛刻的標準,若濺射靶材的雜質含量過高,形成的薄膜就無法達到使用所要求的電性能,且在濺射過程中易在晶圓上形成微粒,導致電路短路或損壞,將嚴重影響薄膜的性能。芯片制造對濺射靶材金屬純度的要求高,通常要達到99.9995%以上,而平板顯示器、太陽能電池分別要求達到99.999%、99.995%以上即可。
  除了純度之外,芯片對濺射靶材內部微觀結構等也設定了極其苛刻的標準,需要掌握生產過程中的關鍵技術,并經過長期實踐才能制成符合工藝要求的產品。
  超高純度金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分,濺射靶材產業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環(huán)節(jié),其中,靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個濺射靶材產業(yè)鏈中的關鍵環(huán)節(jié)。
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